濺射靶材： 濺（jiàn）射靶（bǎ）材按形狀（zhuàng）分類：矩形平麵靶材、圓形（xíng）平麵靶材（cái）、圓柱靶材

濺射靶材按成分分類：單質金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材

平麵靶材利用率比較低（dī），隻有30%左右，沿著環（huán）形跑道刻蝕（shí）。 

靶材冷卻與（yǔ）靶背板 

1. 靶（bǎ）功（gōng）率密度與靶材冷卻：靶（bǎ）功率越大，濺射速度越（yuè）大；靶允許（xǔ）的功率與靶材的性質及冷卻有關；靶材采用直接水冷，允許（xǔ）的靶（bǎ）功率高。

2. 靶背板 target backplane

使用場合：ITO,SiO2,陶瓷等脆性靶材及燒結靶（bǎ）材Sn(錫）, In（銦）等軟（ruǎn）金（jīn）屬靶；靶材太薄、靶材太貴

材質要求：

導熱性好---常用無（wú）氧銅（tóng），無氧銅的導熱性比（bǐ）紫銅好；強度（dù）足（zú）夠---太薄，容（róng）易變形，不易真空密封。 

結構： 

空心或者（zhě）實心結構---磁鋼不泡或泡在（zài）冷（lěng）水中；厚度適當（dāng）---太（tài）厚，消耗部分磁強（qiáng）；太薄，容易變形。