真空鍍膜技（jì）術是（shì）真空應用技（jì）術的一個重要分支，它已廣泛地應用於光學、電子學、能源開發，理化儀器、建築機械、包裝、民用製品、表麵科學以及（jí）科學研究等領域中。真空鍍（dù）膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣（qì）相沉積法。如果從真（zhēn）空鍍膜的目的是為了改變物質（zhì）表麵的物理、化學性能的話（huà），這一技術又是真空表麵處理技術中的重要組成部分，其分類如表 6 所（suǒ）示（shì）。現就其幾個主要應（yīng）用方麵做一簡單介紹。

        首（shǒu）先在光學方麵，一塊光學玻璃或石英表麵上鍍一層或幾（jǐ）層不同（tóng）物質的薄膜後，即可成為高（gāo）反射（shè）或無反射（即增透膜）或者作任何預期比例的反射或透射材料，也（yě）可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的（de）透射的濾色片。高反射膜從大口徑的天（tiān）文望（wàng）遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建築物（wù）的大窗鍍膜茉莉，都很需要。增透膜則大量用（yòng）於照相和各種激（jī）光器開始、一直到新型建築物的大窗鍍（dù）膜玻璃，都很需要。增透膜則大（dà）量（liàng）用於照相機和電視攝象機的鏡（jìng）頭（tóu）上。

        在電子學方（fāng）麵真空鍍膜更占有極為（wéi）重要（yào）的地位。各種規（guī）模（mó）的繼承電路（lù）。包括存貯器、運算器、告訴邏輯（jí）元件等都要采（cǎi）用導電膜、絕緣（yuán）膜和保護膜。作為製備電路的掩膜（mó）則用到鉻膜。磁帶、磁盤（pán）、半導（dǎo）體激（jī）光器，約瑟夫遜器件、電荷（hé）耦合器件（ CCD ）也都（dōu）甬道各種薄膜。

        在顯示器件方麵，錄象磁（cí）頭、高密度錄象帶以及平麵顯示裝置的透明導電（diàn）膜、攝像管光導膜、顯（xiǎn）示（shì）管熒光屏的鋁襯（chèn）等也都是采用真空鍍膜法製備。在（zài）元件方麵，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬陶（táo）瓷可以製造電阻，在塑料上蒸發鋁、一氧化矽、二氧化鈦等可以製造電容器，蒸發硒可以得到靜電複印機用的硒鼓、蒸發（fā）鈦酸鋇可（kě）以製造（zào）磁致（zhì）伸縮（suō）的起（qǐ）聲元（yuán）件等等。真空蒸發還可以用於製造超導膜和慣性約束巨變反應用的（de）微珠鍍層。此（cǐ）外還可以對珠寶（bǎo）、鍾表外殼表麵、紡織（zhī）品金屬（shǔ）花紋、金絲銀絲（sī）線等蒸鍍裝飾用薄膜，以及采用濺射鍍或離子鍍對刀具、模具等製造超硬膜。近兩年內所（suǒ）興起的多弧離子鍍製備（bèi）鈦金製品，如不鏽鋼薄板、鏡麵板（bǎn）、包柱、扶手（shǒu）、高檔床托架、樓梯欄杆等目前正在盛行。