本文從（cóng）係統結構、參數控製和鍍膜方式等綜述了真空卷繞鍍膜技術研究進展。按結構可分為單室（shì）、雙室和多室真空卷繞係統，後兩（liǎng）者（zhě）可解決開卷放氣問題並分別控製卷繞和鍍膜室各自（zì）真空度。卷繞張力控製分錐度、間接和直接控製模型，錐度控製模型可解決薄膜褶皺和徑向力分布不均的問題；間接張力控製無需傳感器，可用內（nèi）置張力控製模塊的矢量變頻器代替；直接張力控製通過張力傳感器精確測量張力值，但需慣性矩和角速度等多種參數。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發、磁控濺射等方式，可用於製備新（xīn）型高折射率薄（báo）膜、石墨烯等納米材料和柔性太陽能電池（chí）等半導體器件。針對真空（kōng）卷繞鍍膜技（jì）術研究現狀及向產業化過渡存在的（de）問題，最後作了簡要分析與展望。

　　真（zhēn）空卷繞鍍膜(卷對卷)是在真（zhēn）空下（xià）應用（yòng）不同方法在柔性基體上實（shí）現（xiàn）連續鍍膜的一種技術。它涵蓋真空獲得、機電控（kòng）製、高精傳動和表麵分析等（děng）多方麵內容。其重點是，在（zài）保證鍍膜質量（liàng）前提下提高卷（juàn）繞速率、控製鍍膜穩定（dìng）性及（jí）實施在線監控。卷對卷技術（shù）成本低、易操作、與柔性基底相容、生產率高及可連續鍍多層膜（mó）等優點。第一（yī）台真空蒸發卷繞鍍膜機1935年製成，現（xiàn）可（kě）鍍幅寬由500 至2500mm。卷對卷技術應用由包裝和裝飾用膜，近年逐漸擴大至激光防偽膜、導電等功（gōng）能薄膜方麵，是未來柔（róu）性電子（zǐ）等行業的主流技術之一。

　　目前，國際前沿（yán）是研究不同（tóng）製備工藝下功能薄膜（mó）特（tè）性並完善複合膜層製（zhì）備（bèi）。卷繞鍍膜機有向大型工（gōng）業化和（hé）小型（xíng）科研化方向發展的兩種趨勢，國內蘭州真（zhēn）空設備、廣東中環（huán）真空設備等公司多生產大型（xíng）工業卷繞設備（bèi）， 國外如TW Graphics 和Intellivation 公司等（děng），主要為科研機構提供小（xiǎo）型（xíng）或微型卷繞鍍膜機（jī）。

        真空卷繞鍍膜設（shè）備分類
　　真空卷對卷（juàn）設備由抽（chōu）真空、卷繞、鍍膜和電氣控製等係統組成。據真空室有無擋板，可分單（dān）室、雙室和多室結（jié）構。單室的收放卷輥和鍍膜（mó）輥在（zài）同一室中，結構簡單但開卷時放氣會汙染真空環境。雙室結構將係統用擋板（bǎn）隔成卷繞（rào）和鍍膜室，卷輥與擋板間（jiān）隙約1.5mm，避免了類似開卷放（fàng）氣問（wèn）題。多室（shì）常用於製備複（fù）合薄膜，在雙室基礎上將相鄰鍍膜區用擋板隔開避免幹擾。如Krebs 等將Skultuna Flexibles AB 的開普（pǔ）頓擋板（bǎn）固定於兩磁控濺射靶間，板兩側塗覆50μm 的銅層。

　　分隔擋板與真空室壁狹縫越（yuè）小越好。據鍍膜時輥筒（tǒng）作用分為單主輥和多（duō）主輥（gǔn）卷繞鍍膜機。據電機個數，則（zé）可分為兩電機、三電機和四電機驅動係統。

        總結與（yǔ）展望

　　真空卷繞鍍（dù）膜因其大麵積、低成本、連續（xù）性等特點，比間（jiān）歇式鍍膜有（yǒu）很大優（yōu）勢，廣受國內外研究者和企業關（guān）注。當前卷繞鍍（dù）膜技術進（jìn）展較快，解決了鏤空線、白條、褶皺等問題，開始用（yòng）於製備石（shí）墨烯、有機太陽（yáng）能電池和透明導電薄膜（mó）等新型功能介質與器件。故對製膜過程和成膜質量提出了更高要（yào）求，真空機組主泵選擇從大抽速擴散泵發展到無油超（chāo）高（gāo）真空分子泵和（hé）低溫泵，開（kāi）發出（chū）了大包角雙冷卻輥鍍膜機以減小薄膜拉伸（shēn）變形。張力控製多用考慮夾感應（yīng）張（zhāng）力（lì）的收卷模型和單跨非線性動力學的放卷模型。

　　目前卷繞鍍膜的精密控製有待提高，例如轉印石墨烯時，難以徹底去除基底和石墨烯（xī）間的熱解膠，且卷繞速度過快或（huò）基底較硬引（yǐn）發的切應力會使石墨烯層形成裂（liè）縫或（huò）孔洞。又如，真空卷繞發製備的有機薄膜表麵缺陷（xiàn）多，載（zǎi）流（liú）子遷移（yí）率較低，進而嚴重影響其器件的光電特（tè）性。未來（lái）應增設薄（báo）膜應力等測控單元，融合（hé）CVD、離子鍍、高壓靜電紡絲、真空噴射和原位聚合等成膜技術，為開（kāi）發新型有機及其無機複合功能薄膜和器件提供保（bǎo）障。

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