用來進行介質膜的濺射，如在玻璃上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴散隔離（lí）層，該SiO2膜就是采（cǎi）用射頻濺射（shè）。
通常在濺射過程中輝光放電中的離子撞擊到陰極時，會與陰極的電子中和，是的濺射現象可以繼續進行（háng）。
但若靶材本身不導電的（de）話，離子撞擊到靶材上沒有電子（zǐ）中和，
正（zhèng）電荷一直累積，使與後來的（de）離子（zǐ）排斥，這會造成取代直流（liú）電源，使可解決此離子撞擊現象（xiàng）的停頓。
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