真空鍍膜技術是一種新穎的（de）材料合成與（yǔ）加工技術，是表麵工程技術領域的重要組成部分（fèn）；

起源（yuán）於20世紀30年代（dài），直到80年（nián）代才（cái）形成工業化大規模生產，廣（guǎng）泛應用於電子、裝潢裝（zhuāng）飾、通訊、照明等工業領域。

是在真空環境（jìng）下，金屬或金屬氧化物變成氣態原子或分子，沉積在金（jīn）屬或非金屬表麵而形成。 

被（bèi）譽為最具發展前途的重（chóng）要技術之一（yī），並在高技術產業（yè）化的發（fā）展中展（zhǎn）現出誘人的（de）市場前景。

真空的作用

1. 減少蒸發分子跟殘（cán）餘氣體分子的碰撞（zhuàng）

2. 抑（yì）製它們之間的反應

優勢 

低耗能、無毒、無廢液、汙染小、成本低、裝飾效果（guǒ）好、金屬感強。