磁控濺（jiàn）射鍍膜技術介紹
作者（zhě）： 來源： 日期：2020-06-08 9:18:10 人（rén）氣：19488
磁控濺射鍍膜（mó）設備是一種具有結構簡單、電（diàn）器控製穩定性（xìng）好等優點的（de）真空鍍膜機，其工藝技術的（de）選擇對薄膜的性能具有重要影響。
磁控濺射鍍膜技術在（zài）陶瓷表麵裝飾（shì）中采用的工藝流程（chéng）如下：
陶瓷片→超聲清洗（xǐ）→裝夾（jiá）→抽本底真空（kōng）→plasma清（qīng）洗→加熱→通氬氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片（piàn）→表麵檢驗→性能測試→包裝、入庫。
以上工藝技術是以磁控濺射鍍膜設備為基礎，選（xuǎn）用合適的（de）靶（bǎ）材和濺射工藝，製出超硬的耐磨鍍層（céng），可以實現材料的（de）高（gāo）硬度、高耐磨、高耐劃（huá）傷特性；
同時，利用（yòng）NCVM光學膜結構（gòu）設計，設計出各層不同折（shé）射率材料，可以調配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強（qiáng）度高，具備外觀件時尚、美觀（guān）的特點，而且不會屏（píng）蔽電磁信（xìn）號。
磁控濺射鍍膜設備（bèi）配合NCVM工藝，能夠實現對於陶瓷電子消費品的表麵（miàn）裝飾處理，在保證陶瓷強度和硬度（dù）的同時，也能夠提升其（qí）美觀性和藝術性，更好地滿足（zú）消費者的個性化需求。
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