真空鍍膜（mó）設備多弧離子鍍膜上的創新方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材（cái）料和被鍍基板於室內，

真空鍍膜機多（duō）弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸（zhēng）發或升華，並飛行（háng）濺射到被鍍基板表麵凝聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多（duō）優點，可減少蒸發材料的（de）原子、分（fèn）子在飛向基板過程中於分子的碰撞，

減少氣體中的活性分子和蒸（zhēng）發源材料（liào）間的化學反應（如氧化等），以及減少成（chéng）膜過程中氣體分子（zǐ）進入薄膜中（zhōng）成為（wéi）雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表麵處理的不足，且各項技術指標都優於傳統工藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等（děng）領域（yù）有廣泛應用。

催化液和傳統處理工（gōng）藝相比，在技術上有哪些創新？

1、多弧離（lí）子鍍膜不（bú）用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多（duō）弧離子（zǐ）鍍膜鉻的三分之一，不鏽鋼的四分之一，可反（fǎn）複利用，大大降低了成本。