無論監（jiān）控儀精（jīng）度怎樣（yàng），它也隻能控製真空室裏單點位置的膜厚，一般（bān）來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設備（bèi）此位置的膜厚不是絕對均勻的，那麽遠離中心位置的基片就（jiù）無（wú）法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現為（wéi）長期的不均勻性（xìng），但有些膜厚（hòu）度的（de）變化是由蒸發源的不穩定或（huò）膜材的不同表現而引起的，所以幾乎（hū）是不可能消除的（de），但對真空室的結構和蒸發（fā）源的恰當選擇可以（yǐ）使這些影響最小化。
　　在（zài）過去幾年中，越來越多的用（yòng）戶要（yào）求鍍膜係統製造（zào）廠家（jiā）提供高性能（néng）的小規格、簡便型光學鍍（dù）膜係統，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水後光譜變化最小化等方麵。
　　現在，係統的平均尺寸規格已經在降低，而應用小規格（gé）設備進行光學鍍膜的生產也已經轉變（biàn）成為純技術問題。因此（cǐ），選用現代化光學鍍膜（mó）係統的關鍵取決於對以下因素的認真考慮：對鍍（dù）膜產品的預期性能，基片（piàn）的尺寸大（dà）小和物理特性（xìng）以及保證高度一致性工（gōng）藝所必需的所有技（jì）術（shù）因素。

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