真空鍍膜機（jī）主要指一類需要（yào）在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真（zhēn）空（kōng）離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光（guāng）濺射沉積等很多種。今天，昆山香蕉爱视频真空技術（shù）工（gōng）程有限公司為您介紹以下幾種鍍膜機工作原理：
    

        一、空心陰極離子鍍原理

               在本底真空為高（gāo）真空的條件下，由陰極中通入氬器氣（1-10-2）在陰極與輔助陽（yáng）極之間加上引弧電壓，使（shǐ）氬氣發生輝光放電，在空心（xīn）陰極內產生低壓等離子體放電，陰極（jí）溫度升高到2300-2400K時，由（yóu）冷陰極（jí）放電轉為熱陰極放電，開始熱電子發射，放電轉（zhuǎn）為穩定（dìng）狀態。通入反應氣體（tǐ），可以（yǐ）製化合膜。

        二、測控濺（jiàn）射工作原理

              先將真空室預抽至（zhì）10-3Pa，然後通入氣體（如氬氣），氣壓為1-10 Pa時，給靶加負電壓（yā），產生輝光放電，電子在電場正作用下加速飛（fēi）向基片時，與氬原子碰撞，電離出Ar和（hé）另一個電子；轟擊靶材，由二次電子電離的 越來越多，不斷轟擊靶材；磁場改變電子的運動方向，以電磁場束縛和延長電子的運動軌跡，從而提高電子對工作氣體的電離（lí）幾率（lǜ）。

        三、多弧離子鍍工（gōng）作原理

               其工作原理為冷陰極自持弧光放電，其物理基礎為（wéi）場（chǎng）致發射。被鍍材料接陰極，真空（kōng）室接（jiē）陽極，真空室抽為高真空時，引發電極啟動器（qì），接觸拉開，此時，陰極與陽極之間形成穩定的（de）電弧放電（diàn），陰極表麵布滿飛速遊動的陰極斑，部分離子對陰極斑的轟擊（jī）使其變成點蒸（zhēng）發源，以若幹個電弧（hú）蒸發源為核心的為多弧離子鍍。

        四、電阻蒸發式鍍（dù）膜機

               膜材即要鍍的材料放於蒸發舟中，置於真空室中，抽到一定真空時，通過電阻加熱膜（mó）材（cái），使其蒸發，當蒸發分子的平均自（zì）由程大於蒸發（fā）源至基片的線性尺寸時（shí），原（yuán）子和分子從蒸發源中逸出後（hòu），到達基（jī）片形（xíng）成膜。為了使膜（mó）厚均勻，可以利用電機帶動基片旋轉，並用膜厚儀控製膜厚，製出優質膜（mó）。

        五、E型槍工作原理

               陰極燈絲加熱後發射具有0.3    EV初動（dòng）能的熱電子，這些熱電子（zǐ）在燈絲陰極與陽極之間（jiān）的電場（chǎng）作用下（xià）加速（sù）並會聚成束（shù）狀。在電磁線圈的磁場中，電子束沿E x B的方向（xiàng）偏轉，通過陰極時，電子的能量提高到10KV，通過陽極（jí）電子偏轉270度角而入射坩堝內的膜材表麵上，轟擊膜材使其蒸發。

        六、PCVD鍍膜工作原理

               將被鍍件（jiàn）放在低壓輝光放電的陰極上，通入適當氣體，在一定溫度下，利用化學反（fǎn）應和離子轟擊（jī）相結合的過程，在工（gōng）件（jiàn）表（biǎo）麵獲得塗層。

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