化學氣相沉積是一種（zhǒng）製備材（cái）料的氣相生（shēng）長方法，它是把一種或（huò）幾種含有構成薄膜元素的化合物（wù）、單質氣體通入放置有基材的反應室，借助空間氣相化學反應在基體表麵（miàn）上沉積固態（tài）薄膜（mó）的（de）工藝技術。化學氣相沉積(Chemical vapor deposition，簡稱CVD)是反應（yīng）物質在氣態條件下發生化學反應，生成固態物質沉積在加熱的固態基體表（biǎo）麵，進而製得固體材料的工藝技術。它本質上屬於原子範疇的氣態傳質過程。與之相對的是物理氣相沉積（PVD）。