GSF係列高精密電子束蒸發(fā)光學真空(kōng)鍍膜機

日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:26868
GSF係列(liè)高精密(mì)電(diàn)子束蒸發(fā)光學真(zhēn)空鍍膜機

工作原理

GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍(dù)膜機的工作原理是將膜材放入水冷銅坩堝中(zhōng),直接利用電子束加熱,使膜材中的原子(zǐ)或分子從表麵汽化逸出後入射到基片表麵凝結成膜。電子束蒸發比一般電阻加(jiā)熱蒸發熱效率高、束流密度大(dà)、蒸發速度快,製成的薄膜純度高(gāo)。

應用範圍

光學鍍膜(mó)設備可鍍製層數(shù)較多的短波通、長波通、增(zēng)透膜、反射膜、濾光膜、分光膜(mó)、帶通(tōng)膜(mó)、介質膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜係,能夠實(shí)現0-90層膜的膜係鍍膜,也能滿足(zú)如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求。配(pèi)置不同的蒸發源、電子槍和離子源及膜厚儀可鍍多種膜係,對金屬、氧化物、化合(hé)物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍。

產品特點

1)、高精密光學(xué)鍍(dù)膜機配備有石英晶體膜厚儀、光學膜厚自動控製係統,采用PLC與工業電腦配合自主研發的PY3100係統聯合實(shí)現對整個工作過程的全自動控製(zhì),可以實現無人值守,從而提高(gāo)了工作效率和(hé)保證產品質量的一致性和穩定性。
2)、大抽速真空係統加配深冷(lěng)裝置,優秀的動態真空能(néng)力,為複雜的光學膜(mó)係製備提(tí)供了必要的真空條件保障。
3)、蒸發分布穩定(dìng)、性能可靠的(de)E型電子槍(qiāng),優(yōu)化設計的蒸發源與工件架之間的(de)位置關係,為(wéi)精密膜係的實現調工了(le)膜料蒸(zhēng)發分布方麵的保障(zhàng)。
4)、平穩而高速旋轉的工件架(jià)轉動係統,使工件架內外圈產品光譜曲線更趨於一致。
5)、適用於光學領域行業,大規模(mó)工業生產高端要求的廠商使用。

技術參數表

GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機
型號GSF-800GSF-1200GSF-1400GSF-1600GSFW-1000GSFW-1200GSFW-1600
真空室尺寸 Φ800×1000MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1600×1800MMΦ1000×1100MMΦ1200×1400MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵(bèng)機組KT500擴(kuò)散泵機組KT630擴(kuò)散泵機組雙KT630擴散泵機(jī)組
鍍膜係統電子槍蒸發源、鍍(dù)膜輔助離子專用電(diàn)源或霍爾離子源
充氣係統壓強控製儀
控製方式半自動或全自動
膜厚監控係(xì)統石英晶體膜厚監控係統、光學膜厚監(jiān)控係統
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa
備注以上設備參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做
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