離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發（fā）物質部分（fèn）離化，在氣體離子或被蒸發物（wù）質粒子（zǐ）轟擊作用的同時（shí），將蒸發物或反應物（wù）沉積在基片上（shàng）。離子鍍把輝光放電現象、等（děng）離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來（lái），不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。其優點（diǎn）是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離（lí）子鍍與一（yī）般的離子鍍有著很大的區別。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而並不是傳統離子鍍的輝光放電進（jìn）行（háng）沉積。簡單的說，多（duō）弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽極（jí）殼體之間的弧光放電（diàn），使靶材蒸發，從而在空間中形成等離子體，對基體進行沉積。

可以鍍製不鏽鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬膜，也可鍍製合金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜（mó）等,臥式多弧離子鍍膜機主要（yào）針（zhēn）對大麵積（jī）五金工件鍍裝飾膜或者功能膜，適合於在不鏽鋼板（bǎn）、不鏽鋼（gāng）管、不鏽（xiù）鋼門等工件表麵鍍膜。

1)、此類設備真空室最大尺寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型板材、管（guǎn）材上鍍製各類裝飾膜層及功能膜膜（mó）層的（de）適合設（shè）備。